電子信息級材料

超凈高純電子級氫氟酸
Ultra High Purity Hydrofluoric Acid
電子式:HF
CASNo:7664-39-3
用途:半導體、太陽能電池制造方面的硅晶片濕法蝕刻以及清洗,液晶屏等fpd制造工序,水晶振蕩器(石英振蕩器)的制造工序。

說明:半導體、FPD制造流程越發要求精細化、高性能化,半導體硅電路板的清洗在各種加工工序中變得非常重要。氫氟酸具有蝕刻、除去硅氧化膜的特質,因此在半導體硅電路板的清洗流程中也是不可或缺的精細加工技術。由于現在的多段清洗工序中需要用到稀氫氟酸進行最終清洗,半導體的濕蝕刻工序對氫氟酸也要求很高的潔凈度。清洗對氫氟酸潔凈度要求極高的設備構件也需要用到超高純度的氫氟酸。

另外,半導體、FPD制造工序,超高純度藥劑不僅能去除氧化膜,而且能在抑制粒子附著、晶片表面的粗糙度等,達到各種對清洗性、功能性的要求。為此,我公司一直致力于對各種超高純度電子化學品進行研發及銷售。

包裝:加侖瓶,20公斤、25公斤聚乙烯桶,200公斤壓力容器,

1000公斤IBC桶,20噸TANK罐。

聯系人:朱義坤:130-6948-8833

孫 明:185-3018-7110

辛凱明:199-3918-1150


電子級硝酸
Ultra High Purity HNO3 Acid
電子式:HNO3
CASNo:7697-37-2
用途:電子級硝酸主要應用于電子級多晶硅、液晶顯示器件、集成電路和超大規模集成電路用硅片、芯片的清洗、蝕刻等。

說明:我司所生產的電子級硝酸主含量70±0.5%,氯化物≤20ppb,磷酸鹽≤50ppb,硫酸鹽≤50ppb,鋁、鈉、鉀離子≤0.05ppb,其他金屬雜質離子≤0.03ppb,顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml。

包裝:200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶,20噸TANK罐

聯系人:朱義坤:130-6948-8833

孫 沛:181-0391-9965 孫 明:185-3018-7110


電子級氨水
Ultra High Purity NH4OH
電子式:NH4OH
CASNo:1336-21-6
用途:超純氨水主要應用于半導體芯片生產的工藝間清洗,去除晶圓芯片表面的水跡,油污和無機物塵埃等,是芯片加工中必不可少的材料。

說明:我司所生產的電子級氨水主含量(28.5-29.5)%,單個雜質金屬離子含量≤10ppt,硫酸根≤20ppb,磷酸根≤10ppb,顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml。

產品優勢: 由于在超凈高純電子級氨水的精餾純化過程中,氣體中夾雜的霧滴會污染最終產品,導致產品無法達到半導體企業所需要的10ppt 級別水平。于是我司研制了超純的PTFE絲網除霧器替代傳統材質的絲網除霧器,解決了液氨氣化過程中霧滴不易去除的難題,滿足氨氣純化需求,保證了半導體企業所需的純度要求。

包裝:200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶,20噸TANK罐

聯系人:朱義坤:130-6948-8833

孫 明:185-3018-7110 薛萬珂:155-3912-0795


電子級氟化銨
Ultra High Purity NH4F
電子式:NH4F
CASNo:12125-01-8
用途:氟化銨主要用作玻璃刻蝕劑、 木材及釀酒防腐 劑、消毒劑、纖維的媒染劑及提取稀有元素的溶劑, 也是冰晶石生產的中間體,金屬表面的化學拋光劑, 氟化銨溶液可用作清洗劑、腐蝕劑,可與氫氟酸配制成緩沖溶液,MOS級主要用于中、大規模集成電路,BV-Ⅲ級主要用于IC的生產。

說明:電子級氟化銨是一種用于半導體制造工藝中的重要原材料。它可被用作高純度氟離子源和可控的淀積源,幫助調節氟離子濃度和控制膜厚度,因此可用于生產半導體器件中的絕緣層材料、金屬反應物、填充材料和電極所需材料等。電子級氟化銨在半導體和相關產業中具有廣泛的應用,是現代科技生產中不可或缺的原材料之一。在使用時需要注意采用純度較高的電子級產品,避免影響半導體器件的性能和可靠性。

包裝:200公斤壓力容器,20噸TANK罐

聯系人:朱義坤:130-6948-8833

孫 明:185-3018-7110 樊一鳴:191-8077-0215



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